水基清(qing)洗劑概述

一、水基清(qing)洗劑及水基清(qīng)洗的概念

1、水基(jī)清洗劑：是以去(qu)離子水作爲主(zhǔ)溶劑，與表面活(huó)性劑、助溶劑🈚、添(tian)加劑等組合而(er)成，借助于含有(you)的表面活💔性劑(ji)、乳化🤟 劑、滲透劑(ji)等的潤濕、乳化(hua)、滲透、分散、增 溶(rong)等作用來實現(xian)對污染物🔞的清(qing)洗的一種清洗(xǐ)媒介，IPC定義📧中去(qù)離子✨水不小于(yú)👅50%。

2、水基清洗：IPC-CH-65B-CN中定(dìng)義，水基清洗是(shi)以純水或者有(you)機或者無機皂(zào)🐪化劑對組件進(jin)行第一道清洗(xǐ)，然後以純水沖(chong)洗掉組件上的(de)污水🥵的一項制(zhi)程。

二、水基清洗(xi)劑産生的背景(jǐng)

1、日益嚴格的環(huan)保管控：《蒙特利(li)爾公約》、ROHS法規、REACH、SS-00259等(deng)相關環保法規(gui)持 續更新，管控(kong)的物質越來越(yue)多。

2、安全需求：

a、操(cao)作人員健康

b、工(gōng)作場所的環境(jìng)安全

c、廢液排放(fàng)。

3、組裝結構的複(fú)雜化和成本控(kòng)制

a、原材料選擇(zé)範圍變窄。

b、無鉛(qian)化技術的導入(ru)，工藝難度加大(da)。

c、元件的微型化(hua)、元件貼裝和結(jié)構的高密度化(huà)

4、電子清洗行業(ye)的發展趨勢

不(bú)斷提升的環保(bao)安全要求，組裝(zhuāng)結構的複雜化(hua)，清洗要🐆求的提(ti)高，及成本的不(bú)斷增加等等，這(zhe)些因素都決定(ding)了 smt 清洗業，無論(lun)從 清洗設備 、工(gōng)藝技術，還是使(shi)用材料的選取(qu)都不可避免的(de)遵循一個原則(ze)：綠色環保，安全(quan)無害，且低成本(běn)。

高效、高規格、環(huan)保安全的水基(ji)清洗劑是最理(li)想的選擇，也⁉️是(shi)未來清洗業的(de)發展方向和必(bi)經之路。

三、水基(ji)清洗劑機理

1、清(qīng)洗機理

水基清(qing)洗劑是借助于(yu)含有的表面活(huó)性劑、乳化 劑、滲(shen)透劑等的潤濕(shī)、乳化、滲透、分散(sàn)、增 溶等作用來(lai)實現清🏒洗的。根(gēn)據清洗方向，可(kě)分爲中性水基(jī)清洗劑和堿性(xìng)水基清洗劑。

下(xia)面簡單介紹幾(ji)種創新的且在(zài)水清産品中應(ying)用比較多的✊水(shuǐ)基清洗技術。

複(fu)合相變清洗技(ji)術機理圖

 

 

   昊瑞(rui)電子在供品C-70水(shuǐ)基清洗劑符合(he)客戶多種操作(zuò)要求，适✊用于擦(ca)拭清洗/超聲清(qing)洗/氣動噴淋清(qīng)洗等操作👅，此款(kuǎn)清洗🥵劑爲無鹵(lu)🌈水基清洗劑，符(fu)合RoHs、REACH 指令，不含破(po)壞👅臭氧層物質(zhì)。具有使用安全(quán)，對🐆人體危害小(xiao)🈲等特點。

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